Samsung получит первую машину High-NA EUV к IV кварталу
Компания Samsung рассчитывает получить первую литографическую машину High-NA EUV к концу этого года, что позволит южнокорейскому гиганту лучше конкурировать с TSMC.
По информации SEDailyполупроводниковое подразделение Samsung Electronics получит от ASML самую совершенную машину для литографии по процессу High-NA EUV, которая называется TwinScan EXE:5000. Первым же в мире клиентом ASML на машины для High-NA EUV стала Intel, для использования на заводах в США, а также TSMC для применения на Тайване. Следующим же будет Samsung.
Intel заплатила миллиарды долларов за первую волну машин нового типа, при этом Samsung заказала 8 таких машин. Конкурент Samsung в области DRAM, также корейская SK Hynix, тоже рассчитывает заполучить машины EXE:5200 High-NA EUV в ближайшем будущем.
Первые микросхемы, выпущенные на новом оборудовании, Samsung сможет показать в первой половине 2025 года.