Новости про 7 нм и интервью

Боб Свон, исполнительный директор Intel, сообщил, что сейчас компания планирует подготовить следующее поколение процессоров по 7 нм технологии за два года. По его словам, эта производственная технология обеспечит двукратное увеличение плотности микросхемы и четырёхкратное упрощение правил конструирования, что сделает будущие чипы меньше и проще в создании.

Это заявление также означает, что 10 нм технология будет крайне недолговечной, особенно в сравнении с 14 нм, которая до сих пор продлевается.

Главной причиной провального запуска 10 нм технологии Свон назвал избыточную амбициозность и «слишком агрессивное» продвижение технологии. Будущий 7 нм процесс от Intel будет использовать EUV и будет доступен в 2021 году наряду с 10 нм++.

Лиза Су отметила, что разные линейки продуктов будут выпускаться на разных заводах, при этом она ничего не сообщила о деталях. Однако уже в этом году AMD планирует выпустить первый 7 нм продукт. Им будет плата Radeon Instinct на базе архитектуры Vega, предназначенная для машинного обучения. Также в плане компании другие 7 нм продукты, включая GPU Navi и Zen 2 (которые последуют за Ryzen 2000).

«— Что касается GloFo, то по 14 нм и 12 нм нормам компания работает по лицензии Samsung, в то время как 7 нм в большей степени принадлежит GF. Произойдут ли в результате изменения в отношениях?

— Ну, в 7 нм мы будем использовать как TSMC, так и GlobalFoundries. Мы тесно работаем с обоими производственными партнёрами, и у нас будут различные линейки продуктов для каждой из компаний. Я абсолютно уверена в том, что технологический процесс будет стабильным и способным ответить нашим требованиям».

Он сравнил эту технологию с 28 нм процессом и заявил, что это «самый трудный переход за множество поколений».

Чтобы ускорить 7 нм «мы буквально удвоили наши усилия, как на предприятиях, так и в командах разработки. Это труднейший переход, который я видел за множество поколений», — заявил Пейпермейстер, сравнив его с переходом на медные соединения.

Он добавил, что 7 нм технология требует новых «инструментов САПР и меняет подход к проектированию устройства и способам соединения транзисторов. Реализация и инструменты меняются так же, как и необходимая для работы IT поддержка».

Директор ожидает, что заводы начнут использовать экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUV) в 2019 году, которая позволит выпускать микросхемы с 7 нм элементами, и он настаивает, чтобы они сделали это максимально быстро.

На вопрос аналитиков о том, сможет ли процессор Zen конкурировать с готовящимися 10 нм процессорами Intel, исполнительный директор AMD Лиза Су сообщила некоторые детали о будущей дорожной карте своих CPU.

Она заявила: «Мы считаем, что Zen крайне, крайне конкурентоспособен там, где мы находимся. В вопросах нашей более долгосрочной дорожной карты, я, наряду с успешнейшими OEM клиентами, особенно с клиентами серверов ЦОД, так же считаю необходимым инвестировать в дорожную карту. Так что они не покупают точечный продукт, и мы имеем дорожную карту на много поколений, над которой продолжаем работу, включая, например, Zen 2, Zen 3 и так далее. С нашей технологией производства, мы действительно успешно начали производить 16 нм и 14 нм [процессоры] в этом году. Мы на самом деле находимся в процессе разработки 7 нм, и мы считаем, что 7 нм дорожная карта производства, которая уже существует, крайне конкурентоспособна, и мы уверяем, что у нас есть надёжная дорожная карта на несколько поколений».

Он сообщил, что Intel надеется выпустить 14 нм производство уже к концу 2013 года. Этот процесс будет проходить по графику подготовки процессоров следующего поколения, известных под кодовым именем Broadwell, которые поступят в массовое производство в 2014 году.

Сам техпроцесс называется P1272 и предусматривает использование элементов схемы равных 16 нм, однако в Intel предприняли некоторые шаги, которые позволили уплотнить элементы кристалла. Разработчики сумели расположить элементы более плотно, чем ожидалось 6 лет назад, когда этот техпроцесс был только анонсирован. В результате Intel получила более энергоэффективную дорожную карту, в отличие от более ранней,  направленной на высокую производительность.

Говоря о будущем компании, были отмечены исследования в области 10 нм технологии, которая запланирована на 2015 год. В то же время Intel работает и над 7 нм, и даже над 5 нм техпроцессами, но Бор не уточнил ожидаемые сроки их поступления в производство.

Если Intel продолжит обновление техпроцесса теми же темпами, то при условии выхода 10 нм литографии в 2015 году, 7 нм появятся в 2017, а 5 нм технология — в 2019 году.