Новости про 7 нм

Intel ожидает переход на 7 нм через два года

10-нанометровая технология производства пала несмываемым пятном на репутацию Intel. В то время, как AMD производит свои процессоры на заводах TSMC по 7 нм нормам, Intel по-прежнему выпускает продукцию по 14 нм нормам.

Боб Свон, исполнительный директор Intel, сообщил, что сейчас компания планирует подготовить следующее поколение процессоров по 7 нм технологии за два года. По его словам, эта производственная технология обеспечит двукратное увеличение плотности микросхемы и четырёхкратное упрощение правил конструирования, что сделает будущие чипы меньше и проще в создании.

Это заявление также означает, что 10 нм технология будет крайне недолговечной, особенно в сравнении с 14 нм, которая до сих пор продлевается.

Дорожная карта внедрения технологий производства Intel
Дорожная карта внедрения технологий производства Intel

Главной причиной провального запуска 10 нм технологии Свон назвал избыточную амбициозность и «слишком агрессивное» продвижение технологии. Будущий 7 нм процесс от Intel будет использовать EUV и будет доступен в 2021 году наряду с 10 нм++.

7 нм APU Ryzen появятся к концу года

В Сети появилась информация о том, что компания AMD планирует 7 нм ускоренные процессоры Ryzen через «4 месяца» после выпуска GPU Navi.

При этом Navi должен быть выпущен 7 июля, а значит, APU появятся в ноябре. Единственным ограничением может стать желание AMD представить новые APU на выставке CES 2020.

AMD Ryzen
AMD Ryzen

Обновлённые процессоры Raven Ridge станут прекрасным выбором для потребителей, которые хотят собрать HTPC или машину всё-в-одном для казуальных игр. На рынке чипы будут противостоять Intel Tiger Lake, которые по уверениям Intel, продемонстрируют производительность в 2 терафлопс.

NVIDIA закажет 7 нм GPU у Samsung

Ещё в январе появились слухи о том, что компания NVIDIA решила производить 7 нм графические процессоры по EUV технологии Samsung.

Однако теперь, по уверению DigiTimes, сама NVIDIA объявила о планах по выпуску архитектуры Ampere по 7 нм технологии EUV. В настоящее время компания производит свои GPU у TSMC по 12 нм нормам. Переход на новые технологи позволит увеличить плотность транзисторов в чипе, снизить энергопотребление и поднять тактовые частоты.

Графичекий процессор NVIDIA Ampere
Графичекий процессор NVIDIA Ampere

Переход на новый техпроцесс состоится в 2020 году. Это значит, что ещё год NVIDIA не выпустит новую серию видеокарт, что даёт AMD некоторое преимущество на ближайшее время.

TSMC ускоряет переход на 5 нм

Компания TSMC приступила к рисковому производству чипов по 5 нм нормам. К массовому производству эта технология будет доступна в первой половине 2020 года.

По имеющимся данным, данный процесс позволит на 45% сократить занимаемую микросхемой площадь и увеличить производительность на 15% по сравнению с нынешними 7 нм чипсетами.

У компании уже готова технология 7 нм+. Она предлагает снижение энергопотребления на 6—12 процентов и позволяет увеличить плотность транзисторов на 20%, по сравнению с нынешним 7 нм процессом. Микросхемы, изготовленные по технологии 7 нм+, будут доступны уже в этом году.

TSMC
TSMC

На обновлённую технологию уже есть заказчики. В первую очередь — Apple, которая заказывает процессоры для iPhone эксклюзивно у TSMC. Также по этому процессу будут изготавливать новые топовые SoC Snapdragon по заказу Qualcomm.

Следующее поколение, 5 нм+, также находится на этапе разработки. Рисковое производство по этой технологии планируется на первый квартал 2020 года, а массовое производство — на 2021 год.

TSMC: большинство клиентов перейдёт на 6 нм

В ходе квартального совещания по итогам работы за квартал, исполнительный директор TSMC, господин Веи, сообщил, что большинство нынешних клиентов, которые получают продукцию по технологии N7, мигрируют на N6.

Эта технология станет усовершенствованием нынешней 7 нм и при той же конструкции обеспечит на 18% большую логическую плотность. Для пользователей переход будет лёгким и малозатратным. Именно поэтому N6 называется следующим популярным техпроцессом производства микросхем.

TSMC
TSMC

Для производства по технологии N6 будет использована экстремальная ультрафиолетовая литография, которая позволит снизить сложность производства за счёт уменьшения количества экспозиций для нескольких масок. Сколько будет слоёв по технологии EUVL для процессов N7+ или N6, пока производителем не подтверждается, но TSMC обещает их увеличение.

Intel начнёт поставки 7 нм процессоров в 2021 году

Во вторник компания Intel провела встречу с инвесторами, на которой главный инженер Мёрфи Редучинтала со сцены рассказал о планах по освоению новых технологий производства процессоров.

Он начал с долгожданных процессоров Ice Lake, которые будут изготовлены по 10 нм нормам, и которые станут поставляться заказчикам с июня. Ранее сообщалось, что новые процессоры позволят производителям выпустить компьютеры на их основе к сезону зимних праздников. Эти процессоры, по уверениям Intel, обеспечат увеличение скорости беспроводной связи в три раза, удвоение скорости графики и кодирования видео, а также работу с приложениями ИИ от 2,5 до 3 раз быстрее, по сравнению с прошлым поколением CPU.

Слайд с обещанием 10 нм продуктов Ice Lake
Слайд с обещанием 10 нм продуктов Ice Lake

Также на период 2019—2020 годов у Intel предусмотрен ряд продуктов, производимым по 10 нм нормам, среди которых клиентские и серверные процессоры, FPGA, GPU общего назначения и так далее.

Смотря в будущее, компания рассматривает внедрение 7 нм процесса, который обеспечит двойное масштабирование и 20% рост производительности на ватт. Также компания обещает снижение сложности конструкции в 4 раза. Эти процессы, доступные после 2021 года, будут изготавливаться с применением экстремальной ультрафиолетовой литографии, которая станет основой для «множества поколений производства».

NVIDIA: Turing более энергоэффективен, чем Vega 20

Многие ожидали, что в ходе GTC компания NVIDIA представит графический процессор Ampere, который будет изготавливаться по 7 нм нормам. Но этого не произошло, потому что NVIDIA абсолютно довольна Turing.

Дзень-Хсунь Хуан, основатель и исполнительный директор NVIDIA, заявил, что его компания не стремится к началу массового производства 7 нм продукции, потому что у неё есть Turing. Несмотря на то, что он производится по 12 нм нормам, он намного эффективнее AMD с 14 нм (Vega 10 = Radeon RX Vega 64) и даже 7 нм (Vega 20 = Radeon VII).

Хуан заявил: «Что делает нас особенными — так это способность создавать наиболее энергетически эффективные GPU в мире за всё время, используя наиболее доступные технологии. Посмотрите на Turing. Энергоэффективность очень хороша, по сравнению даже с 7 нм у некоторых».

Исполнительный директор NVIDIA Дзень-Хсунь "Дженсен" Хуан
Исполнительный директор NVIDIA Дзень-Хсунь "Дженсен" Хуан

Компания AMD стала первой, кто смог достичь 7 нм норм в производстве графических процессоров. Но даже с такой совершенной технологией Radeon VII не смогла догнать NVIDIA Turing ни по эффективности, ни по производительности. Даже 14 нм Pascal более энергоэффективны, чем Vega 20.

Очевидно, что инженеры NVIDIA проделали огромную работу в последних поколениях процессоров, после фиаско поколения Fermi.

TSMC готовит 7 нм EUV производство на этот квартал

Сайт DigiTimes сообщает, что компания TSMC близка к началу производства продукции по 7 нм EUV технологии. Источником информации выступил китайский ресурс Commercial Times.

По имеющимся данным, по новой технологии компания начнёт производить новое поколение флагманских SoC HiSilicon. Эта серия чипов Kirin 985 будет выпущена по 7 нм нормам с применением экстремальной ультрафиолетовой литографии. В TSMC называют этот процесс N7+.

В дополнение TSMC готовит усовершенствованную версию этого процесса, которая будет использована для выпуска процессоров A13, запланированных Apple для iPhone этого года. Этот процесс, названный N7 Pro, будет готов к массовому производству к концу II квартала.

Что касается 5 нм технологии, то первые микросхемы по этим нормам должны быть изготовлены компанией также в текущем году.

TSMC начинает массовое 7 нм EUV производство

Компания TSMC продолжает расширение производства блинов по 7 нм нормам. Промышленные источники сообщают, что уже в марте компания начнёт выпуск микросхем по усовершенствованному 7 нм EUV процессу.

Сообщается, что ASML, производитель машин для экстремальной ультрафиолетовой литографии, всего поставит в 2019 году 30 машин, при этом 18 из них уже зарезервированы TSMC.

TSMC
TSMC

Также в сообщениях говорится, что рисковое 5 нм производство начнётся во втором квартале этого года также с применением EUV процесса. Массовое же производство таких чипов запланировано на первую половину 2020 года.

В то же время TSMC продолжает расширять клиентский портфель на 7 нм чипы. Основными клиентами компании на эту технологию являются AMD, Apple, HiSilicon и Xilinx. Скоро к ним добавятся заказчики в секторах HPC и автомобильной электроники. В конце этого года по 7 нм процессу будет изготовлено 25% от всей продукции тайваньского производителя, что заметно выше 9%, показанных в конце 2018 года. Также, по слухам, 7-нанометровая SoC Apple A13 будет эксклюзивно изготавливаться TSMC, поскольку Samsung не сумела вовремя запустить эту технологию.

Intel активно готовит 7 нм процесс

Возможно, что у Intel появился свет в конце туннеля производства микросхем. Компания сообщила об активной разработке 7 нм технологии производства.

Этот 7 нм процесс будет использовать экстремальную ультрафиолетовую литографию (EUV). Об этом Intel сообщила инвесторам. Процесс будет отвязан от печально известного 10 нм глубокого ультрафиолета (DUV), и команды, работающие над технологиями, разделены. Сейчас протекает процесс квалификации 10 нм DUV технологии, и компания изготавливает небольшое количество маломощных процессоров Cannon Lake.

Пластина с микросхемами
Пластина с микросхемами

Переход от 10 нм к 7 нм позволит вдвое уменьшить размер транзисторов. В 10 нм процессе DUV используется комбинация ультрафиолетовых лазеров с длинной волны 193 мм и мультипаттеринг (на самом деле 4 уровня). В процессе 7 нм EUV применяются суперсовременные непрямые лазеры 135 нм длины волны, исключая мультипаттеринг. Объединение этого лазера с масками позволит создать 5 нм технологию.

Успешная работа над 7 нм процессом означает готовность к квалификации в конце 2019 года и начало массового производства в 2020—2021 годах. Учитывая, что квалификация 10 нм DUV началась в конце 2017 года, а массовое производство началось в мае 2018 года, Intel не станет использовать 10 нм в течение многих лет, как произошло с 14 нм технологией.