Новости про 10 нм

Intel отказалась перенести Ice Lake на 14 нм техпроцесс

Аналитик Motley Fool Ашраф Иасса опубликовал интересную заметку о том, как Intel несколько лет назад допустила огромную ошибку.

О том, что 10 нм процесс Intel никак не может наладить, сейчас известно всем. Однако руководству о трудностях было известно давно. Бывший инженер компании Франсуа Пидноёль сообщил, что у фирмы был шанс перенести архитектуру Ice Lake на 14 нм++ процесс. Пидноёль предлагал такой шаг два года назад, однако руководство его отвергло. Отсутствие этого запасного плана привело к заметному снижению в развитии процессоров, поскольку трудности в производственном подразделении задерживают всю эволюцию Intel.

Intel Ice Lake
Intel Ice Lake

У руководства была возможность обеспечить дизайн Ice Lake (в твите это ICL) на 14 нм технологической базе, но они решили, что это не нужно. Возможно, они поступили так из-за уверенности, что двух лет достаточно для наладки 10 нм технологии производства. Менеджмент сделал неверную ставку, и теперь портфель продуктов Intel из-за этого пострадал.

Lenovo IdeaPad 330 первым получит 10 нм Intel Cannon Lake

Сейчас 10 нм технология Intel испытывает большие трудности, однако Intel уверяет общественность, что она уже отгружает производственным партнёрам 10 нм процессоры Cannon Lake, хотя никто их не видел.

Каково же было удивление обозревателей, когда AnandTech сообщил о начале поставок нового ноутбука IdeaPad 330, основанного на двухъядерном процессоре Intel Core i3-8121, который изготовлен по 10 нм нормам и имеет базовую частоту в 2,2 ГГц и 3,1 ГГц в режиме Turbo.

Lenovo IdeaPad 330

Ноутбук IdeaPad 330 — это машина начального уровня с ценой порядка 450 долларов (без НДС). Лэптоп получит 15,6” экран TN разрешением 1366х768 пикс., картинку на который выводит видеокарта AMD Radeon RX 540 с 2 ГБ VRAM. Базовая конфигурация также включает 4 ГБ ОЗУ DDR4-2133 и жёсткий диск объёмом 500 ГБ и скоростью 5400 об/мин. За дополнительную плату можно получить 8 ГБ ОЗУ, терабайтный жёсткий диск и SSD накопитель на 256 ГБ.

Сам ноутбук малоинтересен, однако факт его продаж в Китае ясно говорит о том, что Intel на самом деле начала поставки 10 нм процессоров, хоть и низкого уровня и без встроенной графики.

10 нм чипы Cannon Lake откладываются

Компания Intel приняла решения отложить массовый выпуск своих 10 нм процессоров Cannon Lake, что вызвало смешанную реакцию в технологическом мире.

Сейчас Intel уже производит такие процессоры в малом объёме, однако массовое производство теперь смещается на начало 2019 года, вместо ожидавшегося конца 2018.

Исполнительный директор компании Брайан Крзанич в ходе совещания по финансовым результатам работы связал задержку с трудностями в получении 10 нм отпечатков. Таким образом, вместо продвижения 10 нм в этом году Intel даёт себе немного времени, чтобы доработать технологию.

Процессор Intel
Процессор Intel

По словам компании, её реализация 10 нм технологии будет лучше, чем у Samsung и TSMC, поскольку она будет иметь больше элементов на квадратный сантиметр. Однако многие обозреватели в этом сильно сомневаются, и действительно ли Intel говорит правду, а не готовит очередной маркетинговый трюк, мы узнаем после готовности технологии.

Что касается нынешнего положения дел, то Крзанич оценил успех 14-нанометровой технологии, отметив рост её производительности на 70% с момента первого выпуска.

2 нм могут оказаться невыгодными

В ходе мероприятия группы Synopsys, прошедшего в Санта Кларе, калифорния, прозвучали слова сомнения о возможности перехода полупроводниковой промышленности на 2 нм нормы производства в будущем, поскольку этот переход вряд ли будет экономически целесообразным.

Конечно, инженеры видят способы уменьшения транзисторов до 5 нм, 3 нм и даже 2 нм, но некоторые сомневаются в коммерческой эффективности этих переходов. Пока об этом говорить слишком рано, но повышение сложности и рост затрат на всё уменьшающиеся чипы может означать, что даже 5 нм процесс окажется экономически нецелесообразным.

Дорожная карта уменьшения размеров транзисторов в микросхемах
Дорожная карта уменьшения размеров транзисторов в микросхемах

«Прирост производительности в 16%, полученный при переходе на 10 нм, теряется при переходе на 7 нм по причине сопротивления в металлических дорожках. Энергосбережение, возросшее на 30% при 10 нм, при переходе на 7 нм возрастёт на 10—20%, а площадь кристалла, уменьшившаяся на 37% при 10 нм сократится на 20—30% с переходом на 7 нм», — заявил Пол Пензес, старший директор технологической команды Qualcomm.

«Площадь по-прежнему уменьшается на хорошую двухзначную величину, но скрытые затраты возрастают, означая, что реальные преимущества в стоимости и прочие улучшения начинают снижаться… И не ясно, что останется на 5 нм», — добавил Пензес, допустив, что 5 нм процесс может стать единственным улучшением после 7 нм.

Утекли сведения о Snapdragon 670

Компания Qualcomm уже подготовила новые платформы среднего уровня, которые должны быть представлены в ходе Mobile World Congress. Однако в Сеть уже утекли спецификации чипа Snapdragon 670, который будет изготовлен по 10 нм нормам.

По имеющимся слухам чип Snapdragon 670 (также известный как SDM670) основан на архитектуре ARM big.LITTLE, однако не так, как это было реализовано раньше. В новой SoC будет присутствовать два высокопроизводительных ядра Cortex A-75 и шесть эффективных ядер Cortex A-55.

Qualcomm Snapdragon

Эти два высокопроизводительных ядра названы Kryo 300 Gold. Они работают на частоте 2,6 ГГц. Энергоэффективные ядра Kryo 300 Silver работают на частоте 1,7 ГГц. Кроме того, SoC будет иметь три уровня кэширования, включая 32 КБ L1, 128КБ L2 и 1024 КБ кэша L3.

Графическая часть реализована GPU Adreno 615, хотя ранее ходили слухи о графике Adreno 620. Графический процессор Adreno 615 работает в частотном диапазоне от 430 МГц до 650 МГц с динамическим ускорением до 700 МГц. Максимально поддерживаемое разрешение экрана составляет 2560х1440 пикс.

Из остальных характеристик можно отметить процессор обработки изображений, который поддерживает пару камер разрешением 13 Мпикс. и одну 23 Мпикс.

10 нм процесс Intel опоздал на 2 года

Не секрет, что 10 нм технология от Intel давно выбилась из графика и повлияла на дорожную карту. В период зимних праздников новостей не много, так что можно немного разобраться с тем, что происходит в развитии технологии у Intel.

Архитектура Cannon Lake, изготовленная по 10 нм нормам, должна была стать седьмым поколением процессоров Core, однако вместо неё мы получили 14 нм Kaby Lake. В этом году гигант так и не смог представить никаких решений по 10 нм технологии, и выпустил Coffee Lake, 8-е поколение Core, также изготовленное по 14 нм номам. Эти процессоры стали четвёртым поколением, изготовленным по 14 нм процессу.

Intel Core i7

Эксперты в индустрии считают, что 10 нм технология Intel предложит ту же производительность, что и 7 нм у GlobalFoundries и Samsung, однако о массовом производстве речь пока не идёт. Отмечается, что даже Core Y, самое маленькое 10 нм ядро, пока ещё не выпущено.

Таким образом, 10 нм процессоры так и не были выпущены в 2017 году. Даже самые маломощные и простые версии CPU не готовы к производству. Остаётся надеяться, что хотя бы Core Y мы увидим уже в наступившем году.

Samsung выпустила самую маленькую микросхему DRAM

Компания Samsung Electronics выпустила новые микросхемы оперативной памяти, которые по её уверению являются самыми маленькими в мире.

Микросхемы DRAM DDR4 от Samsung, выпущены по второму поколению технологии 10 нм класса, они имеют объём 8 Гб. Они обеспечивают 30% прирост в производительности по сравнению с первым поколением 10 нм класса производства. Энергоэффективность новых микросхем была увеличена на 15%, а 10% прирост производительности обусловлен новыми проприетарными технологиями производства. Среди инноваций компания отметила высокочувствительную систему данных ячеек и прогрессивную схему воздушного зазора.

Микросхемы Samsung DDR4 10нм-класса второго поколения

Новые 8 Гб микросхемы DDR4 могут работать на скорости 3600 Мб/с на контакт, в то время как 8 Гб чипы первого поколения обеспечивают скорость в 3200 Мб/с на контакт.

Компания Samsung уже завершила валидацию памяти второго поколения 10 нм класса у производителей CPU. Следующим шагом компании станет тесное сотрудничество с заказчиками в разработке более эффективных вычислительных систем следующего поколения.

Intel не спешит с технологией EUV

В то время как компании Samsung и TSMC спешат внедрить литографию в глубоком ультрафиолете (EUV) в следующем году. В то же время Intel не участвует в гонке.

Промышленный источник, имя которого не раскрывается, сообщил,  что компания не заказывала материалы, необходимые для EUV, как это сделала Samsung и TSMC.

Машины, необходимые для выпуска продукции по технологии EUV, производятся голландской компанией ASML. Такие машины стоят по 150 миллионов долларов и основываются на самых современных разработках. Сама ASML получила заказы на 21 машину, которые она изготовит к 2019 году. Столь медленный выпуск связан с нехваткой линз, которые производит Zeiss.

Машины ASML для литографии в глубоком ультрафиолете

Дж. Дан Хатчесон, исполнительный директор исследовательской компании VLSI Research, утверждает, что внедрение EUV проходит сложнее, чем ожидалось. Все производители рассчитывали наносить один-два маскирующих слоя, но теперь речь идёт о пяти, шести или даже семи защитных слоях.

Но почему Intel не спешит с EUV? Обозреватели считают, что причина кроется в отсутствии конкуренции. Если на рынке ARM чипов TSMC и Samsung активно соперничают, то у Intel в этом направлении нет конкурентов. В связи с чем у последней есть больше времени на тщательную подготовку и совершенствование технологии для производства быстрых и мощных процессоров.

Samsung обещает начать 7 нм производство в конце 2018 года

Маркетинговая война за нанометры не останавливается. Компания Samsung сообщила о добавлении в свой технологический портфель процесса, позволяющего производить микросхемы с размером элементов 11 нм.

Новым процессом стал 11 нм Low Power Plus (LPP) FinFET. Эта технология будет коммерчески доступна в первой половине 2018 года. По сравнению с процессом 14LPP, новая технология Samsung обеспечит 15% прирост производительности изготавливаемых процессоров, а также уменьшит на 10% физическую площадь чипов. Всё это достигается при том же энергопотреблении. Технологию планируется применять при производстве SoC, используемых в смартфонах среднего уровня. Для своих топовых смартфонов компания продолжит использование процесса 10LPP.

Пластины с чипами

Также южнокорейская компания объявила о новых достижениях в разработке 7 нм LPP процесса, который использует ультрафиолетовую литографию (EUV). В компании сообщили, что первые чипы по этой технологии будут выпущены во втором полугодии 2018, однако о коммерческом производстве не сообщила ничего. Сейчас Samsung уверяет, что добилась 80% эффективности при выпуске по 7 нм EUV технологии 256 Мб чипов SRAM на тестовой линии.

Intel может опять перенести выпуск Cannon Lake

Компания Intel всё ещё планирует выпустить процессоры по технологии 14 нм+ для рынка настольных машин. Фирма также готовится к переходу на 10 нм, по которой будут выпущены CPU Cannon Lake.

Эти чипы уже переносились пару раз. После последнего анонса они планировались к выпуску на конец 2017 года или начало 2018-го. Но теперь этот срок может быть опять сдвинут.

Пластина микропроцессоров

По информации DigiTimes компания Intel может изменить график выпуска процессоров Cannon Lake. Скорее всего, речь идёт о версии с интегрированным GPU, на которую рассчитывали многие производители компьютеров.

По отчётам, 10 нм процессоры Cannon Lake с интегрированной графикой могут не появиться в продаже до конца 2018 года. Однако чипы без iGPU могут появиться раньше. Их массовое производство начнётся в первой половине будущего года.